한양대, 순수 SiO₂ 기반 선택 소자 개발…차세대 메모리 적용 가능성 제시

한양대학교 연구팀이 SK하이닉스와의 산학협력을 통해 순수 이산화규소(SiO₂)를 활용한 선택 소자를 개발하고 동작 원리를 규명했다. 차세대 고집적 메모리 구조에서 요구되는 안정성과 공정 호환성을 동시에 확보하는 기술로 평가된다.

2026.05.15 by 배종인 기자