삼성전자, ASML과 High NA EUV·12인치 마스크 협력 확대

삼성전자가 ASML과 협력을 확대해 차세대 노광 기술 확보에 나선다. 12인치 포토마스크 공동 개발과 2028년 D램 양산 공정에의 High NA EUV 도입을 추진 중이다. 12인치 마스크 전환으로 스티칭 제약 해소와 생산성 향상을 기대하며, High NA EUV를 …

2026.09.08 by 배종인 기자