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    인텔 파운드리·ASML, 하이 NA EUV 100만 장 웨이퍼 공정 적용 돌파

    인텔 파운드리와 ASML이 High NA EUV 리소그래피 기술의 양산 적용 성과를 공개했다. 현재까지 100만 장 이상의 웨이퍼 공정에 High NA EUV를 적용했으며, 팬서 레이크 프로세서 일부 레이어 양산에도 적용 중이다. 양사는 6인치 마스크 기반 단기 지원과…

    2026.09.08 by 배종인 기자