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“기술을 아는 시대 넘어 기술을 증명하는 시대”…e4ds Tech Day 2026 성료
e4ds가 9월 8일 한국과학기술회관에서 개최한 ‘e4ds Tech Day 2026’이 성황리에 막을 내렸다. 이번 행사는 SDV와 엣지 AI를 중심으로 기술 자체보다 실제 산업 현장에서의 적용 기준과 활용 방향을 제시하는 데 초점을 맞췄다. 명세환 대표는 ‘기술을 증..
2026.09.09 by 배종인 기자
“답변하는 AI는 끝났다”…오픈AI, ‘일하는 AI 시대’ 선언
오픈AI는 9일 서울 강남구 조선팰리스 호텔에서 기자간담회를 열고 지난 1년간의 국내 사업 성과와 향후 전략을 공개했다. 겉으로는 한국 진출 1주년 행사였지만 발표의 중심에는 최근 공개된 ‘GPT-6 아스트라(GPT-6 Astra)’가 있었다. 아스트라는 사람의 질문에..
2026.09.09 by 배종인 기자
인피니언, 전기차 트랙션 인버터용 통합 PMIC ‘TLE9744QK’ 출시
인피니언이 전기차 및 하이브리드 차량 트랙션 인버터 제어용 통합 PMIC ‘OPTIREG TLE9744QK’를 출시했다. 전원 공급·레졸버 여자·안전 엔진을 단일 칩에 집약해 부품 수를 줄이고 PCB 면적을 최대 70% 감소시켰다. ISO 26,262 ASIL-D 기준..
2026.09.09 by 배종인 기자
ASML·TSMC·삼성이 꺼낸 ‘12인치 포토마스크’ 카드…40년 반도체 표준이 바뀐다
ASML과 TSMC, 삼성전자, 인텔이 High NA EUV 시대를 맞아 업계 공동 규격 전환에 착수하며, 같은 방향을 가리키기 시작했다. 표면적으로는 차세대 노광 장비인 High NA EUV(극자외선) 관련 발표처럼 보이지만, 이번 움직임의 본질은 장비 도입이 아니다..
2026.09.09 by 배종인 기자
TSMC·ASML, High NA EUV용 12인치 포토마스크 전환 추진…2033년 양산 목표
TSMC와 ASML은 8일 High NA EUV용 12인치 포토마스크 전환을 위한 공동 산업 이니셔티브를 출범했다고 밝혔다. 양사는 2031년 12인치 포토마스크 파일럿 라인을 구축하고, 2033년에는 관련 노광 시스템을 첨단 공정 양산에 적용하는 것을 목표로 하고 있..
2026.09.09 by 배종인 기자
인텔 파운드리·ASML, 하이 NA EUV 100만 장 웨이퍼 공정 적용 돌파
인텔 파운드리와 ASML이 High NA EUV 리소그래피 기술의 양산 적용 성과를 공개했다. 현재까지 100만 장 이상의 웨이퍼 공정에 High NA EUV를 적용했으며, 팬서 레이크 프로세서 일부 레이어 양산에도 적용 중이다. 양사는 6인치 마스크 기반 단기 지원과..
2026.09.08 by 배종인 기자
삼성전자, ASML과 High NA EUV·12인치 마스크 협력 확대
삼성전자가 ASML과 협력을 확대해 차세대 노광 기술 확보에 나선다. 12인치 포토마스크 공동 개발과 2028년 D램 양산 공정에의 High NA EUV 도입을 추진 중이다. 12인치 마스크 전환으로 스티칭 제약 해소와 생산성 향상을 기대하며, High NA EUV를 ..
2026.09.08 by 배종인 기자
일레븐랩스, 신임 CRO에 애슐리 크레이머 선임
음성AI 스타트업 일레븐랩스가 OpenAI 엔터프라이즈 영업 총괄 출신의 애슐리 크레이머를 신임 최고수익책임자로 선임했다. 연간반복매출(ARR) 6억 달러 돌파와 엔터프라이즈 매출 55% 초과 달성 시점에 글로벌 수익 조직 전담 임원을 영입해 기업 고객 중심의 사업 확..
2026.09.08 by 배종인 기자
노타, K-온디바이스 휴머노이드 국책과제 주관기관 선정
노타가 산업통상자원부 국책사업 ‘K-온디바이스 AI 반도체 기술개발 사업’의 휴머노이드 분야 주관기관으로 선정됐다. LG전자, 모빌린트와 협력해 비전언어행동모델(VLA)을 경량화하고 국산 NPU 구조에 맞게 변환, 로봇 내부에서 실시간 온디바이스 추론을 가능하게 한다...
2026.09.08 by 배종인 기자