정부가 세제 지원을 통해 반도체, 배터리, 백신 등 국가전략기술 R&D, 시설투자 지원을 강화한다. R&D 비용은 신성장·원천기술 대비 +10%p 상향하고, 시설투자는 신성장·원천기술 대비 +3∼4%p 상향한다.
▲국가전략기술 반도체, 배터리, 백신 세제지원 개정안
2024년 12월31일까지 3년간 한시적 지원
R&D +10%·시설투자 +3∼4% 공제율 확대
정부가 세제 지원을 통해 반도체, 배터리, 백신 등 국가전략기술 R&D, 시설투자 지원을 강화한다.
정부는 지난 26일 세법 개정안을 발표했다.
이에 따르면 차세대 성장동력 확보를 위해 국가전략기술 R&D 및 시설투자시 세제지원을 강화하기로 했다.
우선 현행 일반 투자 및 신성장·원천기술 투자의 2단계 구조를 개편해 3번째 단계인 전략기술을 신설하고, 신성장·원천기술보다 공제율을 확대한다.
R&D 비용은 신성장·원천기술 대비 +10%p 상향하고, 시설투자는 신성장·원천기술 대비 +3∼4%p 상향한다.
이 경우 R&D 비용 공제율은 대·중견 기업은 30∼40%이고, 중소기업의 경우 40∼50%다. 시설투자 공제율은 당기분의 경우 대기업 6%, 중견기업 8%, 중소기업 16%이며, 증가분은 4%다.
정부는 국가전략기술 지원분야로 반도체, 배터리, 백신 3개 분야를 선정했다.
이에 대한 근거로 이들 3개분야는 글로벌 기술패권, 공급망 경쟁이 가열되고 있는 분야로 핵심기술 확보, 생산능력, 공급기지 보유가 외교적 전략자산으로 기능하고 있기 때문이다.
반도체의 경우 메모리, 시스템, 소재·부품·장비 등 산업 생태계 전반의 글로벌 경쟁력 강화를 위해 부문간 균형적으로 지원한다.
메모리는 해외 경쟁사와의 초격차 공고화를 위해 초기 양산시설 투자기술을 포함하고, 시스템은 파운드리 부문 글로벌 경쟁력 강화, 중소 팹리스 지원에 초점을 둔다. 소부장은 소재 공급위기 재발 방지 및 부품·장비 기술경쟁력 강화를 지원한다.
구체적으로 살펴보면 △15㎚ 이하급 D램 설계·제조기술과 시설투자는 16㎚이하급 D램 △170단이상 낸드플래시 설계·제조기술과 시설투자는 128단 이상 낸드플래시 △SoC 파운드리 분야 7㎚ 이하 제조기술 △차량·에너지효율향상·전력용 반도체 설계·제조기술 등이다.
배터리는 현재 상용 이차전지 성능 고도화 및 차세대 이차전지 선점, 4대 소재·부품개발 지원에 초점을 둔다.
백신은 백신 자주권 확보를 위해 개발·시험·생산 전단계를 지원한다.
적용시기는 2021년 하반기부터 2024년 12월31일까지 3년간 한시적으로 지원한다.
이 외에도 신성장 R&D 등에 대한 세제지원도 강화한다.
대상기술은 탄소중립 기술, 바이오 등 신산업 기술을 신성장·원천기술 R&D 세액공제 대상에 추가한다.
신성장·원천기술 심의위원회의 기능을 확대해 기존기술 평가 및 신규기술 도입을 심의하고, 개별기술은 일몰제를 적용해 주기적으로 존속여부를 평가한다.
미래성장동력 확충을 위해 신성장, 원천기술 R&D 비용 세액공제 제도의 적용기한도 2024년 12월31일까지 3년 연장한다.
또한 R&D 출연사업을 지원하기 위해 R&D 정부 출연금 과세특례 제도의 적용기한도 2023년 12월31일까지 2년 연장한다.
이와 함께 지식재산(IP) 시장 수요·공급 생태계 조성 지원에도 나선다.
초과공급 상태인 지식재상 시장의 수요 확충을 지원하기 위해 무형자산인 지식재산 취득에 대한 투자세액공제를 허용하고, 기계장치 등 사업용 유형자산 위주의 통합투자세액공제 대상 자산을 중소·중견기업이 취득하는 지식재산까지 확대한다. 기본공제 중소기업 10%, 중견기업 3%에 증가분 3%를 추가 공제한다.
또한 자체 연구·개발한 특허권 등 기술의 이전·대여 소득에 대한 세액감면 적용대상을 확대하고 적용기한을 연장한다. 중소·중견기업의 기술이전 소득에 대해 세액 50%를 감명하는 기술이전소득 세액감면을 2023년 12월31일까지 2년 연장하고, 중소기업 기술대여소득 세액감면(25%)을 2023년 12월31일까지 2년 연장하고, 2022년부터는 중견기업도 적용대상에 추가한다.