Review of hydrogen (H2) and liquefied hydrogen for semiconductors
Published2023.04.03 16:15첨단 반도체 공정에 극자외선(EUV, extreme ultraviolet) 시설이 갖춰지고 있는 가운데, EUV 공정에서 사용될 수소로 저장 용량이 크고, 면적을 적게 차지하는 액화수소(L-H2)의 도입이 검토되고 있는 것으로 알려졌다.
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2026.07.24by 배종인 기자
