정부가 반도체 핵심 장비인 EUV(극자외선) 노광장비 도입 절차를 간소화한다. 이에 따라 검사 기간이 대폭 줄어들면서 반도체 생산라인 구축 일정에도 변화가 예상된다.

산업통상부는 2일 국무회의에서 ‘고압가스 안전관리법 시행령’ 일부개정안이 의결됐다고 밝혔다. 이번 개정안은 반도체 제조장비의 안전관리 기준을 조정하는 내용을 담고 있다.

EUV 장비는 반도체 공정에서 미세 회로를 형성하는 핵심 설비다. 기존에는 장비 내부에 고압가스 설비가 포함된다는 이유로 ‘고압가스 제조시설’로 분류됐다.

이로 인해 △기술검토 △허가 △중간검사 △완성검사 등의 절차를 거치며 총 34일이 소요됐다.

개정안은 EUV 장비를 ‘특정설비’로 분류하도록 변경했다. 이에 따라 △기술검토 △허가 △완성검사 절차만 적용돼 검사 기간이 약 9일 수준으로 줄어든다.

중간검사가 생략되면서 장비당 약 5억 원 수준의 검사 비용 절감 효과도 예상된다고 산업부는 밝혔다.

EUV 장비는 파장 13.5nm의 극자외선을 이용해 웨이퍼에 회로를 그리는 반도체 공정 장비다. 내부에는 고압가스 장치가 포함돼 기존에는 공장 설비로 취급돼 왔다.

정부는 업계 의견을 반영해 글로벌 안전 기준과의 정합성을 검토한 뒤 분류 기준을 조정했다고 설명했다. 특정설비로 전환하되, △3년 주기 공장심사 △종합공정검사 등을 통해 기존과 동일한 수준의 안전성을 유지할 계획이다.

이번 개정안에는 추가 규제 개선 내용도 포함됐다. △이산화탄소를 활용한 세정설비 검사 기준 신설 △고압가스 시설 안전관리자 선임 기준 완화 등이 주요 내용이다.

산업부는 해당 개정안이 공포 후 즉시 시행될 예정이라고 밝혔다.