연간 최대 470㎘ 절감, 최대 5대 ArF 레이저 연결 가능

기가포톤(Gigaphoton)이 반도체 노광 공정에 사용되는 ArF 엑시머 레이저용 가스 재활용 시스템을 개발하며 희귀가스 공급 안정성 강화에 나섰다.

기가포톤은 1일 ArF 엑시머 레이저용 현장 네온 가스 재활용 시스템인 ArF용 hTGM(hTGM for ArF)을 개발했다고 발표했다.

ArF 리소그래피는 첨단 반도체 생산에 활용되는 핵심 공정 기술로, 레이저 구동에 필요한 네온 가스의 안정적 공급이 중요하다. 최근 지정학적 리스크와 공급망 불안정성으로 네온 가스 수급 변동성이 확대되면서 반도체 업계에서는 사용량 절감과 재활용 기술에 대한 관심이 높아지고 있다.

네온 가스 재활용률 50% 달성

ArF용 hTGM은 반도체 제조 공장에서 사용된 가스를 회수해 재활용하는 시스템이다.

회사는 이 기술을 통해 네온 가스 재활용률 50%를 달성했다고 밝혔다. 또한 단일 시스템 기준 연간 최대 470킬로리터(㎘)의 가스 소비를 줄일 수 있으며, 최대 5대의 ArF 엑시머 레이저 장비와 연결해 운영할 수 있다.

기가포톤은 기존에도 KrF 엑시머 레이저용 가스 절감 및 재활용 솔루션을 제공해 왔으며, 이번 개발을 통해 관련 기술 적용 범위를 ArF 리소그래피 분야로 확대했다.

반도체 공급망 안정성 강화 기대

회사는 가스 소비 절감 기술과 현장 재활용 시스템을 결합해 희귀가스 조달 리스크를 줄이고 반도체 제조사의 생산 안정성을 높일 수 있을 것으로 기대하고 있다.

특히 네온 가스는 반도체 노광 공정에 필수적으로 사용되는 희귀가스인 만큼 공급망 변동성에 대한 대응 역량 확보가 중요하다는 설명이다.

기가포톤은 향후 첨단 레이저 기술과 친환경 솔루션 개발을 통해 반도체 산업의 공급망 안정성과 지속가능성 강화에 기여한다는 계획이다.