ASML과 TSMC, 삼성전자, 인텔이 High NA EUV 시대를 맞아 업계 공동 규격 전환에 착수하며, 같은 방향을 가리키기 시작했다. 표면적으로는 차세대 노광 장비인 High NA EUV(극자외선) 관련 발표처럼 보이지만, 이번 움직임의 본질은 장비 도입이 아니다. 반도체 생산의 핵심 인프라 가운데 하나인 포토마스크 규격 자체를 바꾸는 산업 전환 프로젝트다.